Procesný fotometer OMA-300 Applied Analytics

Meria koncentráciu v plynoch a kvapalinách na princípe absorpcie v oblasti 200-1100 nm (UV-VIS/SW-NIR)

Kategória

Popis

Procesný fotometer OMA-300 firmy Applied Analytics

Meria koncentráciu v plynoch a kvapalinách na princípe absorpcie v oblasti 200-1100 nm (UV-VIS/SW-NIR)
Je možné merať až 5 chemických zložiek v plyne/kvapaline
Spektrometer využíva 1024 fotodiód pre špecifickú vlnovú dĺžku, čím sa získava rozlíšenie spektra 1 nm
Vzorka je oddelená od skrine analyzátora – prepojenie s externou meracou celou celou optickými káblami
Vybrané merateľné zložky: H2S v zemnom plyne; SO2; merkaptány, H2O
Cl2; ClO2; farba (APHA, Saybolt); obsah aromátov (BTX); ióny kovov ( Cu2+, Ni2+); Br2; čistota MEG; TiCl4 NOX; NH3; H2S; SO2; HF; Cl2; VCM
Wobbeho index
ATEX – Exp II 2(2) GD

Máte záujem o tento produkt?

Procesný fotometer OMA-300 Applied Analytics

Vyplňte a odošlite nasledujúci formulár a my vám radi poskytneme podrobnejšie informácie o produkte.